TOFCO东富科 ULVIT ULV 臭氧水分解装置 对比活性炭工艺 半导体纯水臭氧尾水处理方案详解
阅读： 发布时间：2026-09-16
在半导体晶圆湿法清洗工艺中，臭氧纯水是重要的清洗介质。但清洗后的水体含有大量溶解臭氧，很多工厂会选用活性炭吸附方式降解臭氧，却经常遇到碳粉析出污染纯水、滤芯频繁更换、运维成本居高不下等痛点。日本 TOFCO 东富科ULVIT ULV 臭氧水分解装置（オゾン水分解装置）采用紫外光降解技术，为洁净车间臭氧尾水处理提供无耗材的替代方案。
1. 活性炭滤芯长期使用会出现碳粉脱落，微粒进入纯水回路，直接造成晶圆良率下降；
2. 滤芯属于消耗品，需要定期停机更换，备件采购、人工维护成本持续增加；
3. 设备体积大，在洁净车间里占用宝贵的无尘空间；
4. 遇到含氢氟酸的臭氧水工况，活性炭很容易快速失效，无法稳定运行。
TOFCO ULVIT ULV 紫外式臭氧分解技术原理
ULVIT ULV 搭载 253.7nm 高功率紫外灯管，水流流过石英套管，紫外线直接将水中溶解臭氧分解为氧气。整个过程不需要添加药剂，也无需活性炭滤芯，从根源杜绝碳微粒污染风险。
✅ 机型分为 S 型、M 型、L 型，覆盖小试到量产大流量；
✅ 提供普通纯水版本和耐 HF 氢氟酸版本，适配晶圆含氟清洗回路；
✅ 内置灯管故障、漏水、舱门异常、灯管使用时间预警信号，可接入产线 PLC 联锁；
✅ 整机紧凑立式柜体，节省洁净厂房占地面积。
- ULVIT ULV S 型：处理流量 1L/min，适合实验室、小型清洗样机、研发小试产线。
- ULVIT ULV M 型：主力量产机型，纯水版*流量 20L/min；HF 耐腐版*流量 5L/min，8 英寸晶圆清洗产线使用多。
- ULVIT ULV L 型：大流量机型，纯水版本* 40L/min，HF 版本 10L/min，适合面板厂、大流量纯水主循环管路。
